Válvula dosificadora con control medio para equipos de pulverización por plasma con resistencia a altas temperaturas

Diseñada para equipos de pulverización de plasma en aplicaciones de revestimiento metálico y cerámico, nuestra válvula medida controla con precisión el flujo del medio de pulverización para garantizar una calidad uniforme del revestimiento.Diseñados para soportar temperaturas extremas de hasta 300 °C, la válvula dispone de un núcleo cerámico de zirconio y una carcasa cerámica de aluminio que resiste la degradación por arcos de plasma superiores a 10.000 °C.

La válvula ofrece una precisión de flujo excepcional de ± 0,5% para un espesor de revestimiento consistente que oscila entre 50 y 500 μm.Su innovador diseño anti-asentamiento con micro-agitación incorporada evita la sedimentación de polvos de alta densidad, mientras que la compatibilidad con las pistolas de pulverización de plasma estándar (100-400A de corriente) y el enlace de presión de gas (argón, hidrógeno) optimiza la eficiencia de pulverización para los fabricantes de equipos de pulverización térmica.

• Control de micro flujo (0,1-2 mL/min) que corresponda a la salida de niebla de 100-500 mL/h
• Estructura de doble sellado (silicona + EPDM) que garantiza un rendimiento a prueba de fugas de 0,3 MPa
• Plástico ABS de calidad alimentaria que impide el crecimiento de bacterias en los canales de agua
• Diseño de baja potencia (1,5 W) compatible con las fuentes de alimentación de los humidificadores domésticos de 5 V
• Apoya el enlace del sensor de humedad para el ajuste automático del flujo

Ideal para uso doméstico, proporcionando un control preciso y una fácil instalación para ambientes aromáticos personalizados.